對于大氣臭氧層破壞的原因，科學家中間有多種見解。但是大多數人認，人類過多地使用氯氟烴類化學物質(用CFCs表示)是破壞臭氧層的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產。在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后，開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等。另外，哈龍類物質(用于滅火器)、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。
在平流層內離地面20~30千米的地方是臭氧的集中層帶，在這個臭氧層中存在著氧原子(O)、氧分子(O2)和臭氧(O3)的動態平衡。但是氮氧化物、氯、溴等活性物質及其他活性基團會破壞這個平衡，使其向著臭氧分解的方向轉移。而CFCs物質的非同尋常的穩定性使其在大氣同溫層中很容易聚集起來，其影響將持續一個世紀或更長的時間。在強烈的紫外輻射作用下它們光解出氯原子和溴原子，成為破壞臭氧的催化劑(一個氯原子可以破壞10萬個臭氧分子)。

標簽：臭氧催化劑素有